Bequem und schnell
Mit fortschrittlicher Technologie und einem einzigartigen Luftstromverteiler sorgt das System für eine äußerst gleichmäßige Luftstromverteilung. Dies ermöglicht die effiziente Nutzung von Kohlenstoffmolekularsieben und ermöglicht die Produktion von hochwertigem Stickstoffgas innerhalb von etwa 20 Minuten.
Benutzerfreundlichkeit
Die Ausrüstung zeichnet sich durch ein kompaktes, auf einem Rahmen montiertes Design aus, das nur minimale Stellfläche einnimmt und keine Tiefbauarbeiten oder Infrastrukturinvestitionen erfordert. Aufgrund des geringen Anfangskapitalbedarfs muss das Gerät lediglich vor Ort an eine Stromversorgung angeschlossen-werden, um mit der Stickstofferzeugung zu beginnen.
Wirtschaftlich
Der PSA-Prozess (Pressure Swing Adsorption) ist eine unkomplizierte Methode zur Stickstofferzeugung. Durch die Nutzung der Umgebungsluft als Rohmaterial beschränkt sich der Energieverbrauch des Systems ausschließlich auf den Strom, der für den Betrieb des Luftkompressors erforderlich ist. Es bietet deutliche Vorteile, darunter niedrige Betriebskosten, minimalen Energieverbrauch und hohe Effizienz.
Automatisierter Betrieb
Gesteuert durch ein importiertes SPS-System arbeitet das Gerät vollautomatisch. Stickstoffdurchfluss, Druck und Reinheit werden kontinuierlich überwacht und angezeigt und können vollständig an spezifische Anforderungen angepasst werden. Das System ist für den unbeaufsichtigten Betrieb geeignet.
Breites Anwendungsspektrum
Die Anwendungen umfassen ein breites Branchenspektrum, darunter: Schutzatmosphären für die Wärmebehandlung von Metallen; Prozessgas für die chemische Produktion; Stickstoffspülung und Inertisierung verschiedener Lagertanks und Rohrleitungen; Prozessgas zur Herstellung von Gummi- und Kunststoffprodukten; Sauerstoffverdrängungs- und Konservierungsverpackungen in der Lebensmittelindustrie; Spül- und Schutzgas in der Getränkeindustrie; Stickstoffverpackung und Behälterspülung in der Pharmaindustrie; und Schutzatmosphären für die Produktion von elektronischen Bauteilen und Halbleitern in der Elektronikindustrie. Das System liefert stabile, einstellbare Reinheitsgrade, Durchflussraten und Drücke und erfüllt so die unterschiedlichen Anforderungen verschiedener Kunden.
Technische Spezifikationen
Durchflussrate: 1–5000 Nm³/h
Reinheit: 95 %–99,9995 %
Taupunkt: Weniger als oder gleich -40 Grad
Druck: Kleiner oder gleich 0,8 MPa (einstellbar)
